某半导体器件电子器件营造厂在晶圆生产加工环节中，的使用硅烷做出硅外加萌发，废气排放洗條塔所产生高硫含量含硅废液。废液有pH震荡大（2-11）、硅硫含量高的优缺点，傳統处置技术易现身硅垢淤塞毛病。 电镀废水含量及主要来源 电镀废水重要化学物质为： 融解性硅酸盐 ：SiO₂氧化还原电位达1000-1500mg/L 硫酸钠/氢阳极氧化钠 ：清洗塔酸性清洗液剩余的 颗粒剂硅 ：纳米级级SiO₂固体 痕量砷 ：主料杂质残渣进入 治理步骤流程步骤流程 转型升级选择"两极中合+膜过滤清洁+蒸发器心得"技艺： 一级通过成绩中合 ：用CaO调理pH至4-5，合成硅酸钙积淀，硅弄掉率60%。 2级与 ：加Na₂CO₃将pH加强至9，进一歩沉淀物中剩下的硅，电容串联用镁剂除砷。 超滤膜平台 ：0.02μm工业陶瓷膜滤过nm级硅颗料，通量比较稳定在80LMH。 MVR挥发器 ：萃取高盐生产废水，沉淀出Na₂SO₄副物料，水中水回用率超90%。 决定实际效果 总硅从1500mg/L降到5mg/L以内 砷分子量从0.8mg/L降为0.01mg/L 系统化无积垢使用高达2年 第二年的回收利用磷酸钠晶胞约800吨